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ASML慌了,台积电也在绕开EUV光刻机,中国市场成为它的 ...

2023-5-3 18:49| 发布者: fuwanbiao| 查看: 116| 评论: 0

放大 缩小
简介:全球最大芯片代工企业台积电牵头成立了 开放创新平台 3D Fabric 联盟,全球已有19家芯片企业加入,包括美光、三星和SK海力士等全球知名的芯片企业,这个联盟的目的是降低对EUV光刻机的依赖,降低成本之余提高芯片性 ...

全球最大芯片代工企业台积电牵头成立了 开放创新平台 3D Fabric 联盟,全球已有19家芯片企业加入,包括美光、三星和SK海力士等全球知名的芯片企业,这个联盟的目的是降低对EUV光刻机的依赖,降低成本之余提高芯片性能。

ASML慌了,台积电也在绕开EUV光刻机,中国市场成为它的 ...


据悉台积电和相关合作伙伴成立的 3D Fabric 联盟将开发2.5D、3D芯片堆叠和先进封装技术,希望利用这些技术进一步发挥7nm以及其他成熟工艺制程的成本优势,提升芯片性能,以满足芯片企业的需求。


台积电研发芯片3D封装技术已有多年,今年上半年它还以3D WOW封装技术为英国一家AI芯片企业生产芯片,以7nm工艺生产的芯片辅以3D WOW封装技术后,性能提升幅度超过了5nm,而成本得到大幅下降。


当前台积电先进工艺已出现严重过剩,为此不得不关闭部分EUV光刻机并让员工休无薪假期,主要是因为先进工艺的成本太高了,除了利润丰厚的美国芯片之外,其他芯片企业普遍承受不起,然而如今美国芯片也在砍单,台积电就被迫开发新的业务,于是已取得成功的3D芯片堆叠和封装技术就得到了台积电的进一步重视。


此次台积电牵头成立的 3D Fabric 联盟得到了包括竞争对手三星的支持,美国芯片也选择加入,可见这种先进的封装技术颇受青睐,让台积电更加充满信心,然而如此做对于光刻机企业ASML来说就是又一个重大打击。

ASML慌了,台积电也在绕开EUV光刻机,中国市场成为它的 ...


EUV光刻机被用于5nm及更先进工艺,而7nm则可以继续使用DUV光刻机,同时更先进的EUV光刻机耗电量也更大,昂贵的成本和高难度的技术导致目前全球芯片企业当中仅有三星、台积电和Intel采用。


今年以来全球芯片行业出现供给过剩,芯片企业纷纷将控制成本放在优先位置,如此利润丰厚的美国芯片企业AMD、NVIDIA等都在缩减先进工艺的芯片订单,高通也在缩减对台积电的订单,并且高通已将部分订单交给格芯,预计未来数年从格芯采购75亿美元的芯片,而格芯的最先进工艺仅是14nm,这些都显示出芯片企业开始青睐成本更低的成熟工艺。


先进工艺由于成本昂贵不受青睐,对于台积电来说无疑是压力,毕竟成熟工艺已不是台积电所独有的,于是台积电就开发先进的封装工艺,希望以先进封装工艺打出差异化,确保它在成熟工艺方面继续保持竞争优势,如此一来对ASML来说无疑是重锤打击。


台积电是ASML的EUV光刻机最大客户,它已采购了80台EUV光刻机;另外美国芯片企业美光已开发出无需EUV光刻机的1-β工艺,如此一来ASML的EUV光刻机将面临无企业采用的局面。


当然对于ASML来说也并非完全没希望,还有一个超级大市场需要EUV光刻机,中国大陆一直都在孜孜以求采购EUV光刻机以研发7nm及更先进工艺,只是由于众所周知的原因,ASML无法自由出货,因此它暂时无法将EUV光刻机出售到中国大陆。


但是如今全球诸多芯片企业都在绕开EUV光刻机,ASML面临生存困境之下,就必须考虑中国大陆这个市场了。



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