随着芯片用量的持续增长,自主研发芯片已经成为全球趋势,光刻机作为半导体工业皇冠上的明珠,已经成为了各国的必争“利器”。 如今,出了台积电和三星具备高精度芯片制造能力以外,Intel是最有希望成为第三家入围的企业,因为其最近公布10nm芯片制程不但成本大大降低,而且实际性能媲美台积电的7nm芯片,而近日,Intel再次公布了一个重要消息,那就是即将采用下一代极紫外光刻技术进行芯片生产,也就是高数值(High-NA)EUV。据悉,Intel正在与ASML进行密切合作,以确保早日突破这一技术难关。 ASML做出决定 众所周知,台积电作为ASML最重要的客户之一,多年来从ASML采购了大量的光刻机,这也是为什么台积电的芯片产能可以一直增长的原因所在,并且占据全球50%以上的芯片市场,而其它企业由于没有足够的光刻机,所以永远都只能充当台积电的追随者,比如三星和中芯国际。 实际上,台积电和三星都是ASML的股东之一,不过由于近年来市场全球化的趋势越来越明显,所以台积电和三星都在减持ASML的股权,与之截然不同的是,美国花旗集团却做出了相反的举动,并不断加持ASML股权,如今已成为ASML最大的股东,甚至具备了绝对的话语权。 |