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芯片大厂们的制程“撒谎”史

2023-3-3 09:08| 发布者: 挖安琥| 查看: 96| 评论: 0

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简介:”是说芯语”已陪伴您1479天作者 |郭海惟 邮箱 |guohaiwei@pingwest.com 2022年12月,91岁的台积电开创人张忠谋站在亚利桑那州凤凰城的巨型工厂前,而台下是这个星球最有权力的半导体决策者们——苹果CEO库克、英 ...

”是说芯语”已陪伴您1479天


芯片大厂们的制程“撒谎”史


作者 郭海惟


邮箱 guohaiwei@pingwest.com


2022年12月,91岁的台积电开创人张忠谋站在亚利桑那州凤凰城的巨型工厂前,而台下是这个星球最有权力的半导体决策者们——苹果CEO库克、英伟达开创人黄仁勋、AMD董事长苏姿丰、美光CEO梅洛特拉、阿斯麦CEO维尼克。当然,还有年过80岁的美国总统拜登。


这里的每一个人单独拎出来,大约都能够给摩尔定律改上几个参数。但他们齐聚一堂,却是为了台积电3纳米的晶圆厂。2014年以后,美国本土顶级晶圆厂展开(主要是英特尔)不时掉队。而台积电则被以为将会是目前最高端的晶圆制造商,具有最先进的制程和抢先的良率。


众人开心,唯独张忠谋很忧伤。


他明白这大约是台湾地域半导体最高光的瞬间,却也是最黯然的时辰。他短暂回想了台积电与美国的历史,然后喃喃吐出了一个名句,“全球化简直曾经死了,至少有那么一段时间,它们不会再回来。”


这句话像是说给自己听的,同样也像是说给台湾地域民众听的。


这场“大搬运”在台湾地域内部引发了一系列的负面反响,批判台积电“叛变”,改名“美积电”的声音不绝于耳。因而,台积电相关人士被迫出来重复“廓清”,表示台积电依然会把最先进的制程工艺留在岛内:


1纳米工艺肯定落地新竹龙潭园区,总投资或将超320亿美圆。

芯片大厂们的制程“撒谎”史


图源:网络


台湾民众听完心稍安了,有网友简单朴素地换算了一下:


∵ 1纳米等于3纳米的三分之一


∴ 台积电的才干是美积电才干的三倍


∴ 台积电依然是台湾的自豪


但关于更多的人来说,1纳米制程自身就是一个令人疑惑的概念。


从微观极限的角度来看:硅原子的直径不到0.12nm,1纳米工艺意味着8.5个硅原子的大小。思索我们的芯片工艺和算法才干谈不上“量子计算机”的水平,更处置不了在量子层面的种种反牛顿力学的工程问题,如此小的工艺足以让人吃惊了。


那么请问台积电消费的1纳米、3纳米、5纳米、10纳米工艺的芯片,到底是芯片上的哪一个部分呢?


答案是:无。


10纳米芯片的实践制程(最小金属间距)大约在40纳米左右;5纳米芯片的最小金属间距大约为30纳米;3纳米芯片的则大约为22纳米。


1纳米的芯片只存在于高校的实验室里,并且在短期内都不会出往常任何晶圆工厂中。


2019年台积电研发担任人、技术研讨副总经理黄汉森在一次论坛中做出了这样的招认表态:“往常描画工艺水平的XX纳米说法曾经不科学了……制程节点曾经变成了一种营销游戏,与科技自身的特性没什么关系了。”


关于台积电来说,这是一场营销游戏;但关于消费者来说,这更像是一种共谋的“骗局”。


纳米制程:世纪乌龙定名


要弄分明黄汉森会这么说,我们还要回到芯片结构说起:


一个典型的晶体管其实分为三个单元,源级(Source-可了解为电流入口)、漏极(Drain-可了解为电流的出口)、栅极(Gate-可了解为开关-此概念将重复在文中呈现)。栅极的开合,决议了电流能否经过,也就输出了所谓的0-1信号。


晶体管的“开关”实践上控制了0和1的信号输出,且栅极在很大水平上决议了这个晶体管的性能——栅极越短,晶体管开关的速度自然也就越快。


更重要的是,在早期晶体管的展开过程中,人们发现栅极的尺寸与晶体管密度的数据展开进程是高度吻合、呈现等比例缩放的。


于是在上个世纪70年代开端,人们便应用栅极的尺寸来命名制程的大小。


而以纳米来权衡制程,能够让大众更分明地知道技术展开的进程。同时,行业也应用这个制程向公众传送一种“技术审美”:制程越小、代表芯片越先进。


一方面,摩尔定律规则芯片晶体管密度18个月要提升一倍、价钱降落一半,这简直只能经过降低制程来完成;另一方面,晶体管的快速增长会带来严重的功耗问题,也需求经过降低制程,来减少单个晶体管所需的电压。


否则,有人以为,假如沿着晶体管密度的线路展开,芯片的能耗密度将超越火箭发射器 [10],完成真正的“为发烧而生”。


因而,单个晶体管的大小在当时成为了决议晶体管密度最重要的指标之一,在很大水平上能够决议晶体管的性能。


既然,晶体管大小决议了晶体管密度,而栅极又与晶体管大小高度相关。那么,用栅极大小来命名制程节点,似乎也没有什么问题。


但Bug却还是出在了对摩尔定律的崇拜上。


当时人们在用栅极来权衡芯片制程展开的同时,居然还用摩尔定律“倒推”了一张栅极制程的迭代表格……


既然依据摩尔定律,芯片每一代的晶体管密度要提升一倍,那么对应晶体管的二维面积就要减少一倍,那么一维长度大约就要缩减成上一代的0.7倍。


于是,一张基于摩尔定律的、乌托邦普通规整的制程节点表,就这么降生了。


每一代制程都“精确地”比上一代减少0.7倍,表格长度从3000纳米不时排到了0.9纳米……


图源:wikichip


这种“换算”的益处在于,它像一个自然的OKR——他将摩尔定律这个Objectives,落实成为了一个简单可量化的Key Results。在一定时间内,它也的确指引了芯片工艺的方向,似乎只需我们不时减少制程长度,就能够抵达摩尔给人类描画的技术彼岸。


但这种过于理想化的技术想象,却客观上疏忽了长期的技术变更。


最终历史证明,“栅极宽度与制程等比例变更”,“制程与晶体管密度等比例变更”,这两个最重要的同步性预测,其实只是上个世纪70-90年代的短暂产物。


破产


在90年代后,这种耦合就开端走向了破产。 [1]


既然栅极是中心部件,那么随着芯片工艺的持续改进,厂商开端给栅极更多的优先级。他们采用更好的资料、以至加高栅极的高度等等措施,来抵达更窄的宽度,进而提升晶体管的响应速度 [1]。栅极的减少速度开端抢先于整体单元的减少速度。于是,等式被突破了,制程节点开端失效了。


一开端,栅极的减少自然抢先于制程节点:


在130纳米制程的时分,栅极的实践尺寸其实只需70纳米左右了,简直抢先了纳米制程命名一倍左右。不外,既然栅极与单位整体不成比例,跳过阶段去命名芯片制程,多少就显得有点不讲武德、违犯祖训了。再加之晶体管自身的展开速度还是大致因循了摩尔定律的预测,所以人们也还是沿用了此前的制程命名方式。

芯片大厂们的制程“撒谎”史


图源:ieee spectrum [1]


但人类不可能永远以几何级的速度去完成芯片制程的减少,过薄的栅极会带来各种各样的工程学难题,好比“漏电”。制程变短带来的短沟道效应,会直接影响芯片的稳定性、功耗和寿命。于是,栅极制程的展开逐步迟缓下来,与制程节点开端逐步靠拢。


这意味着人类必须重新思索芯片的设计架构,才干继续推进摩尔定律的历史进程。


如图所示,制程命名与栅极宽度的交叉点发作在2012年。


那一年英特尔彻底改动了传统的源级(Source)-栅极(Gate)-漏极(Drain)的平面结构(Planar),转而采用了下图右侧的FinFET鳍式场效应晶体管,经过参与鱼鳍Fin来辅佐栅极进步性能。


这种结构的转变,也意味着芯片开端更多地从平面结构方式,转向3D、平面的设计思绪 [11]。当横向展开受挫的时分,晶圆厂开端比以往更多地向“天空”寻觅空间。

芯片大厂们的制程“撒谎”史


图源:LamResearch


你以至能够说,在22纳米以前的芯片原本就是“低垂的果实”。而往常,在资料物理学上没有飞跃的状况下,每一次向更低制程的“拱卒”,都需求耗费工程师头上更多的头发。


好音讯是,摩尔定律还在苟延残喘;坏音讯是,设计驱动似乎会变得越来越密集。


Planar结构用了二十多年,从3000纳米不时用到22纳米;FinFET结构用了10年,从22纳米不时到3纳米。尔后,FinFET构培育逐步无法继续提供足够好的静电控制了,又需求在结构上进一步更新 [3]


GAA(全环绕栅极)被以为是下一代的技术道路。


例如在“3纳米”工艺上,三星就官宣了其全新的结构计划:MBCFET(多桥通道场效应晶体管multi-bridge-channel field-effect transistor)。而台积电方面估量会在“2纳米”工程中导入新的GAA结构计划 [4]


而GAA也不会是历史的终点。东京电子此前的一份讲演中,就直观地展示出了其对芯片结构变更的可能性。GAA可能只会主导几代芯片,更强悍的制造工艺将会是CFET(Complementary FET,互补场效应晶体管),应用3D堆叠器件中止芯片制造,或许将主导“1纳米”以下的制程开发 [12]

芯片大厂们的制程“撒谎”史


图源:东京电子


从结构图来看,新的3D工艺就像是在平面上盖楼,来维持摩尔定律的增长。这将是一座雄伟的宫殿,栅极再不可能有曾经的参照系位置。实践上,以台积电和三星的制程数据为例,其10纳米芯片的栅极宽度大致在66-68纳米;3纳米芯片,大致在40-45纳米。


如上图所示,研讨机构也转而运用了金属半截距作为参照。在3纳米之后的每一次技术迭代,晶体管半截距大约就只能进步2纳米左右。但命名系统依然遵照了摩尔定律的命名方式,以0.7倍几何级速度,头也不回地一代代迭代下去。


于是我们就呈现了一个悖论:


晶圆厂在做一项夸大的人类雕琢活动,而这种复杂的结构恰恰是由于人类无法很好地驾驭原子层面的工艺,所以需求另辟蹊径才干满足摩尔定律。但摩尔定律的制程表,却还在不时强调极短制程的重要性。


摩尔定律在嘲讽摩尔定律。


在5纳米时期,制程差别大约是5.6倍;而到了7埃米时,制程差别大约会到17倍。

芯片大厂们的制程“撒谎”史


图源:台积电官网


异化


严厉来说,从90年代开端,以纳米命名制程节点的方式曾经破产了30年了。从5纳米到3纳米,就像iPhone13到14一样,仅仅只是用于技术代际分辨的营销意义,没有任何实指的工程学意义。


假如一定要牵扯上什么关系的话,那也只能是:


这颗芯片的性能相当于,假定我们能在Planar结构中造出0.8纳米制程的芯片、且没有微观量子找省事的状况下,该有的性能。


这大约要等到上帝把宇宙的代码开源以后了。


从理论上来说,目前这种制程节点命名的合法性来源其实只需一个:每一代晶体管数量翻倍。但即便如此,杀红了眼的晶圆厂也不会就此罢手。


人们慢慢发现,不同晶体厂关于“翻倍”的规范居然也是不同的。


以14纳米向10纳米的过渡为例,英特尔与三星、台积电就呈现了定名道路的争议。英特尔为了恪守摩尔定律规则,坚持将随后的两代芯片连续命名14+与14++,就此得名“牙膏厂”的雅称。而三星和台积电则直接将产品命名为10纳米,迎合了C端消费市场的换代审美。


但当时两个阵营的芯片才干差距尚没有代际级的差距,于是就呈现了芯片历史上有趣的一幕:


同样制程名字下,英特尔似乎比同类抢先了一代;但台积电与三星下一代来临的速度,似乎抢先了英特尔不止一代。


当时有不少媒体和机构都指出,假如依照台积电和三星的规范,英特尔14纳米+产品线其实能够被称作12纳米。而英特尔随后推出的10纳米芯片,其表示以至部分优于台积电7纳米。英特尔也在媒体沟通会上,拿出了大大的10纳米制程的参数对比表格,暗示友商不讲武德 [5]


但当英特尔完成10纳米量产的时分,台积电5纳米产线都曾经在树立中了。

芯片大厂们的制程“撒谎”史


图源:同名不同姓,参数差了一代|图源:EDN China [5]


纳米制程推出的目的之一,其实是让不同的晶圆厂,都能够在同一个规范体系下定名。但“各说各话”的定名方式,又客观上解构了规范。


纳米节点命名从效劳摩尔定律的“公式”,变成了效劳晶圆厂自身节点规划的“术语”。


这种随意性能够体往常本文开头时,媒体关于1纳米、2纳米芯片的宣传上。台积电所说的1纳米芯片,在摩尔定律的表格上实指18埃米制程。但曾经没有人真的在乎这套天马行空的制程命名方式了:


1.8纳米制程,痛快又被抹零成为了1纳米…


这种越来越具有误导性的营销话术,很容易招致普通民众对芯片制造才干的误解。


一方面,普通人很容易对人类自身的资料技术工艺得出过于达观、超出实践的印象;另一方面,随着制程名字越来越夸大,普通人也很容易得出“芯片制程展开走到极致”的达观结论——究竟假如哪一天制程命名方式曾经接近原子大小了,难道我们要切开原子核来制造晶圆吗…

芯片大厂们的制程“撒谎”史


图源:unsplash


后摩尔时期


在过去二十年的时间里,人们无数次地讨论摩尔定律的死亡与持续。而这种讨论的实质,其潜台词都指向了对摩尔定律的了解上。


支持者以为,晶体管数量大致坚持了翻倍的趋向,故摩尔定律依然生命力旺盛;而反对者以为,摩尔定律首先应该是一个成本公式,暗含着IT技术的普惠性。


极端一点说,假如我们在实验室里造出小批量的、极端昂贵、但晶体管密度极高的芯片(事实上曾经存在于很多大学实验室里),这一定跟摩尔定律没有任何关系。


纳米制程节点、而非晶体管密度,在早期能够代表摩尔定律的展开,就隐含了对这种技术均衡性的追求。纳米命名方式与实践制程的各奔前程,其实自身就标记乌托邦式的摩尔定律开端解体——这自身就是摩尔定律的宿命,天下没有不散的宴席,技术的展开不可能是一条直线。


但纳米节点却表演了一种“遮羞布”式的角色,人们伪装摩尔定律还存在,却事实性地绕过了摩尔定律 [7]


晶体管结构越做越复杂,中心越来越多,芯片大小越做越大。

芯片大厂们的制程“撒谎”史


图源:苹果


激进的进步姿势对环节各方都有着更高的请求:


于是我们发现芯片的控温越来越难了,明明是“5纳米”的芯片,却比“10纳米”烫得多;


我们慢慢发现旗舰芯片越来越贵了,对应终端设备的价钱也水涨船高了;


有媒体征引机构调研数据表示,各个工艺下芯片开发成本正在着呈几何级的增长:


28nm工艺4280万美圆→22nm工艺6300万美圆→16nm工艺需求8960万美圆。到了后期,芯片开发更是伟人的专场:7nm工艺2.486亿美圆→5nm工艺4.487亿美圆→3nm需求5.811亿美圆→2nm工艺需求7.248亿美圆 [8]


而这仅仅是芯片公司的开发成本,关于晶圆代工厂来说,产线的树立投资成本愈加昂扬。


树立一座28nm晶圆厂投资额达60亿美圆,但等到5nm晶圆厂投资额高达150亿美圆,而兴建一条3nm产线成本为150亿~200亿美圆 [9]。而台积电最近宣布投资的“1纳米”工厂,投资范围高达320亿美圆。


有风闻称,台积电3纳米芯片的报价将超越2万美圆;5纳米时期的报价还只需1.6万美圆,7纳米时不外1万美圆。 [13]


有多家海外科技媒体报道称,由于晶圆厂的报价真实过于昂贵,高通和联发科以至不扫除会弃用2纳米的芯片制程。

芯片大厂们的制程“撒谎”史


图源:英伟达


我们正处在一个“后摩尔时期”,进入一个全新的技术环境。


从这个角度来说,“纳米”则更像是这个时期的一个“史前传说”,它生动、古老、代表了美好时期的技术品德,但它却很难再回来了。


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参考资料:


[1]《a better way to measure progress in semiconductors》,ieee spectrum


[2]《Introduction to Microelectronic Fabrication processes》,NPTEL


[3]《后FinFET时期的技术演进》,NicEda


[4]《台积电预测:2023年半导体市场将下滑4%》,中国电子报


[5]《全球初次亮相10nm工艺,英特尔如何玩转工艺节点的数字游戏》,EDN China


[6] Wikichip:3nm


[7]《只用一周时间,摩尔定律就死了一次又活了回来》,品玩


[8]《抢跑2nm,能否操之过急?》,半导体产业纵横


[9]《Industry watch: The expensive semiconductor game》,DIGITIMES ASIA


[10]《半导体制程,阅历了哪些严重的展开节点?》,知乎周报-端点星


[11]《芯片中的“层”,层层全解析》,芯论语


[12]《后FinFET时期的继任者》,半导体产业纵横


[13]《14万一片晶圆!台积电3nm工艺报价翻倍:苹果成最坚决客户》,雷科技


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